英特尔测试与中国有关制造设备 或用于14A

两位直接知情人士透露，芯片制造商英特尔公司今年曾测试了盛美半导体的芯片制造工具。被测试的两台所谓 “湿法刻蚀” 设备用于去除硅片材料，正在评估是否可以用于英特尔最先进的 14A 芯片制造工艺。该工艺计划在2027年实现初步投产。无法确定英特尔是否已决定将这些工具纳入该先进制程，也没有证据显示英特尔违反任何美国法规。盛美半导体表示无法评论具体客户合作，但确认美国团队已将其亚洲业务的多台设备销售并交付给美国客户。公司还表示已披露向一家美国大型半导体制造商发运三台设备，这些设备正在测试中，部分已达到性能标准。

—— 路透社